液态金属物质科学与技术研究丛书 液态金属印刷半导体技术删除本页内容
作者:刘静，李倩，杜邦登作
ISBN:1978-7-5478-6234-62
关键词:液态金属-半导体技术
页数:329
出版社: 上海：上海科学技术出版社
出版日期:2023.07
发现时间:2024年11月22日 23:03
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经典半导体制备及器件光刻工艺通常受制于价格高昂的设备、繁琐冗长的制程及严重水电消耗。液态金属印刷半导体技术的出现，以一种自下而上的全新方式实现了对Ga2O3、GaN等第三代、第四代以及更多类型半导体的大面积低成本印制，由此可快速构筑二极管、三极管、晶体管乃至集成电路和功能芯片，这一模式打破了传统半导体制造理念与应用技术瓶颈，正以其普惠化特点展示出巨大发展空间，可望为芯片制造业注入新的活力。为促进这一新兴领域的繁荣和发展，本书旨在讲解液态金属印刷半导体技术的基本原理、典型途径和应用问题，以助力更多基础研发和工业实践，继而推动行业进步。本书可供电子、半导体、物理、材料、化学特别是集成电路、芯片设计、电力电子及绿色制造等领域科研人员、工程师以及大专院校有关专业师生、研究生阅读参考。
液态金属-半导体技术
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