光学投影曝光微纳加工技术
删除本页内容作者:姚汉民，胡松，邢廷文著
关键词:光学投影系统-电子束光刻
页数:285
出版社: 北京：北京工业大学出版社
出版日期:2006.12
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国家科学技术学术著作出版基金资助:本书系统介绍主流光刻技术——光学投影光刻的工作原理、系统组成、应用和发展前景，详细介绍投影光刻物镜、掩模硅片对准、激光定位工件台、分辨力增强技术以及整机集成。
光学投影系统-电子束光刻
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